国产光刻机入选工信部推广目录产业链这些上市公司“有料”

　　每经记者朱成祥(xiáng) 每经编辑梁枭

　　近期，工信微报(bào)微信(xìn)公众(zhòng)号发文披露《首台(tái)（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻(kè)机(jī)位列其中。该资料显示，氟化氩光刻机具(jù)有65纳米以下(xià)的分辨率和8纳米(mǐ)以下的套刻精度。

　　据东兴证券研报，光刻机(jī)可分为直写光刻机与掩膜光刻机(jī)，市场主(zhǔ)流有i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸(jìn)润式氟(fú)化氩）、EUV（极紫外）五大(dà)类。

　　此次入选推广(guǎng)目录的氟化氩光(guāng)刻机，应属于干式ArF光刻机。在具体指标(biāo)上，与ASML旗下TWINSCAN NXT：1470 以及TWINSCAN XT：1460K类似。

　　国产光刻机实力几何？

　　据工信微报(bào)发(fā)文，此次指导目录是为促进首台（套）重大技(jì)术装备创新发展和推广应用，加(jiā)强产业、财政、金(jīn)融、科技等国家(jiā)支持(chí)政策的协同。

　　具体来看，氟化氪光刻(kè)机晶圆(yuán)直径为(wèi)300mm（12英寸），照明波长为248mm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。相比之下，阿斯麦（ASML）的氟化氪光(guāng)刻机型号有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N 和 TWINSCAN XT：860M。这三个型号，波长均为248mm，分辨率≤110nm。

　　而指导目(mù)录中更为先进的氟化氩光刻机，其照明波长为193mm，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。这一数据与ASML旗下TWINSCAN XT：1460K 最(zuì)为接近。该型号照明波长为193mm，分辨率≤65nm。此外，该系统可以在偏振照(zhào)明(míng)下实现低至57nm的生产分辨率。

　　相比之下，ASML浸润式(shì)光刻机TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。据民生证券研报，该型号可实现2.5nm的套刻精度（MMO）。

　　据东(dōng)海证券援引ASML官网数据，2023年(nián)各类(lèi)光刻机均(jūn)价为：EUV（17386万欧元(yuán)）、ArFi（7196万欧元）、ArFdry（2742万欧元）、KrF（1192万欧元）、i-Iine（399万欧元）。

　　东海证券认(rèn)为，目前光刻机国产(chǎn)化率仅为2.5%，整机技术与海外差距较大，5~10 年内90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键。

　　光刻机产业链亟须发展

　　东海(hǎi)证券称，根据(jù)中国国际招(zhāo)标网信息(xī)，半导体设备招标中，刻蚀(shí)、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升，核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外(wài)企业；但光(guāng)刻机作为核心设备，国产化率不足(zú)3%，核心原因在(zài)于零组件供(gōng)应与整机技术与海外差距较大。

　　9月18日，东方财(cái)富概念板块中，光刻机（胶）板(bǎn)块排名靠前，板块(kuài)整体涨幅达2.47%。其(qí)中(zhōng)，同飞股份、波长光电均收获20%涨停；新莱应材（维权）上涨12.40%。此外，张江高科、海(hǎi)立股份、凯美特气等(děng)也涨停。

　　张江(jiāng)高(gāo)科受关注，主要因为其曾投资(zī)上海微电子。张江高科于9月10日在投资者交流平台表示，公(gōng)司通过子公司上海张江(jiāng)浩(hào)成创业投资有限公司投资了上海微电(diàn)子2.23亿元(yuán)，持有上海微电子10.779%的股权，后续未增持或减持(chí)。

　　东(dōng)兴证券称(chēng)，上海微(wēi)电子是我国第一家也是目前唯一的光刻机巨头，出货量占国内市场份额超过80%，产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域，其已具(jù)备90nm及以下的芯片制造能(néng)力。

　　光刻机零部件方面，同飞股份曾在2023年中报表示(shì)，其(qí)液体(tǐ)恒温设备在半导(dǎo)体制造设备领(lǐng)域，主要应用于光刻机、刻蚀机、研(yán)磨抛光机等关键设备(bèi)的温度控制(zhì)。

　　不过(guò)，根据东兴证券研(yán)报，光刻机核心组件(jiàn)包括(kuò)光源系统、双(shuāng)工作台(tái)、物镜系(xì)统、对准系统、曝光(guāng)系统、浸没系统、光栅系统等。配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂胶显影等。

　　光源系统方面，据华金证券，针对准(zhǔn)激光(guāng)光源，科益虹源主要研发248nm准分子激光(guāng)器、干式193nm准分子激光(guāng)器等；福晶科(kē)技研发KBBF晶体。

　　另据东兴证券，波长光电为国内激光光学元件(jiàn)的主(zhǔ)要供(gōng)应商，目前，公司已(yǐ)具备提供光(guāng)刻机配(pèi)套的大(dà)孔径光学镜头的(de)能力，公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国(guó)产光刻机领域配套。

　　波长光电曾于2023年(nián)9月15日披露投资者活动(dòng)记录表称，公司(sī)在半导体领域主要涉及两个领域：一个是生产领域，即(jí)曝光机、光(guāng)刻，公司可(kě)提(tí)供大(dà)口(kǒu)径光学镜头(tóu)用于检测，做折反、投射，还可以(yǐ)提供平行光源系(xì)统；另一个是检测领域，公司可提(tí)供检测设备上的光学元件、组件，也可为(wèi)客户定制开发(fā)、装调子系统。

　　物镜系统方面，东兴证券称，茂莱光学光刻机曝光物镜超精(jīng)密光学元件加工(gōng)技术已实现产业(yè)化。

　　东海(hǎi)证(zhèng)券研报显示，中国(guó)2023年进口光刻机数量高达225台，进口金额高达87.54亿美元，进口金额创下历史新(xīn)高，预计3~5年内我国光刻(kè)机仍主要依赖进口。一台先进的(de)光刻机(jī)有多达10万个零(líng)部件，整体来看我国(guó)半导体(tǐ)零组件的国产化率非常低，尽管在各个赛(sài)道均有(yǒu)相关(guān)的国(guó)有(yǒu)企业在不断发展，但距离海外企业依然有(yǒu)较大的差(chà)距，同时也预示(shì)着(zhe)国内零组件企业公司有较大的发展机遇。

责任编辑：公司观察